Прогноз и описание возможных технологий делают не только фантасты, но и ученые. В 2000 году ученые из Bell Laboratories в статье, опубликованной в Applied Physics Letters, описали технологию, которая позволяла с помощью молекулярно-лучевой эпитаксии создавать “нанопровода” толщиной 3 нанометра. Тогда это казалось не реальным.

А недавно группа ученых из Сингапура, Великобритании и Южной Кореи получила сверхтонкие и сверхгладкие металлические нити толщиной в семь нанометров, или в 14 тысяч раз тоньше человеческого волоса, сообщила пресс-служба сингапурского Агентства по науке, технологиям и исследованиям. Специалистам из сингапурского Института материаловедения и инженерных наук, Кембриджского университета и университета Сонгюнгван (Южная Корея) удалось довести средние колебания в толщине нити до 2,9 нанометра.

При этом международная “дорожная карта” развития полупроводниковых технологий предусматривает снижение этого показателя в 2010 году до 3,2 нанометра, а к 2011 году - до 2,8 нанометра.

“Наши тонкие, длинные и гладкие нити имеют большое значение для обеспечения эффективности непрерывно уменьшающихся в размерах электронных устройств, и это может привести к появлению более мощных процессоров. Более того, наши исследования показывают, что можно создавать непрерывные металлические нити толщиной до четырех нанометров”, - сказал участник исследования доктор Сайфулла (MSM Saifullah), которого цитирует пресс-служба. Результаты исследований были опубликованы в июльском номере журнала Advanced Functional Materials.

Как отмечается в сообщении, ученые использовали новую технику получения нитей. Обычно металлические нити “отслаивают” от основы, однако этот трудоемкий способ, как правило, дает неровные нити, которые к тому же часто рвутся. Группа исследователей использовала материал, содержащий металлические и органические компоненты. С помощью техники электронно-лучевой литографии и обработки материалов газами ученые удаляли органические частицы из заготовок, получая гладкие и тонкие нити.